?等离子喷涂
真空沉积技术又分为电子束—物理气相沉积(EBPVD)、电弧离子镀(AIP)、磁控溅射(MS)。电子束—物理气相沉积是高温状态下金属灯丝内部的一部分电子逸出金属表面,发射出热电子,热电子在电磁场的作用下高速运动形成电子束轰击靶材表面,电子的动能转变成热能,使材料表面快速升温而蒸发或升华,沉积在基片上。电弧离子镀是以镀膜材料作为靶材,借助于触发装置,使把表面产生弧光放电,镀膜材料在电弧作用下,产生无熔池蒸发并沉积在基片上的一种镀膜方法。而磁控溅射是在二级溅射中增加一个平行于靶表面的封闭磁场,借助于靶表面上形成的正交电磁场,把二次电子束缚在靶表面特定区域来增强电离效率,增加离子密度和能量,从而实现高速率溅射的过程。?电子束—物理气相沉积(EBPVD)
?电弧离子镀(AIP)
?磁控溅射(MS)
这些技术各有特色,已经在科研和生产中得到了应用。主管:中国科学院网信办 中国科学院学部工作局 主办:中国科学院计算机网络信息中心
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